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第670章 第二步:覆海!破晓 A220 EUV光刻机,陈总的新筹码!

八月中旬,阿里巴巴ipo、金陵青奥会、奥氏体304、冰桶挑战、古剑奇谭和锋菲复合的热度最高,

让网友们满心疑惑的是,陈延森就像凭空销声匿迹了似的,完全是一副查无此人的状态。

距他上一次公开露面,还是月初时,参加橙子幼儿园的剪彩仪式。

“学前教育行业的势力这么大吗?连前几天的商界领袖峰会,森哥都没参加。”

“我听说陈延森被人打了黑枪,现在还在沪城六院躺着呢!”

“不对啊,我听到的版本是陈总买卖爱情的时候被抓了,最少得关半个月!”

“666!楼上的哥们,你当森联资本的1000多名法务是摆设啊?等着收律师函吧!”

“笑死,删帖速度挺快呀!这是森联资本出手了,还是他自己怕了?”

“森哥早被人暗杀了!下个月要是有他的公开露面,那肯定是替身!”

就在陈延森忙着推进euv光刻机的研发进度时,网上关于他的谣言却越传越离谱。

据不完全统计,在网友的嘴里,陈延森的死法包括但不仅限于枪杀、被车撞、遭毒杀、溺水身亡等。

最终还是森联资本法务部联合微博、今日头条、斗音、快手和微信等多家平台,才把造谣的声音给压了下去。

而陈延森则在一周之内,就接到了老陈的三通电话,在确定自家儿子没事后,扭头便化身辟谣战士,跑到网上跟散布谣言的网友直接对线。

陈延森得知后,倒也没有阻拦。

毕竟和人吵架,也能预防老年痴呆。

时间转瞬即至,来到8月23日的傍晚。

盛夏的晚风,将星源科技研发中心的香樟树吹得枝叶婆娑,沙沙作响。

最里层的核心实验室,此刻却亮如白昼,空气里弥漫着一种近乎凝固的炽热。

时间的概念被恒定的温度和湿度所模糊,唯一能感受到的流逝,是控制室屏幕上跳动的数字。

陈延森穿戴整齐,裹得严严实实,与梁劲松、林南、汪象朝和章延杰等人站在控制台前,透过厚重的抗辐射玻璃,凝视着眼前的庞然大物。

尽管这台euv光刻机只是alpha样机,但金属机身在冷光灯下泛着精密的银辉,数不清的管线如脉络般缠绕,核心腔室的观察窗透出淡紫色的微光。

euv光源、光学系统和双工件台的技术天堑,竟被他们一个接一个地成功攻克。

大厅里异常安静,只能听到通风系统低沉的嗡鸣。

工程师们穿着全套无尘洁净服,像手术室里的医生,在设备周围轻缓走动,进行着最后的检查。

“老板,各分系统自检完毕,真空机组随时可以启动。”

林南的声音略带沙哑,冲着陈延森汇报道。

陈延森点了点头道:“按计划执行,逐步建立光路真空。”

命令下达后,控制室内的气氛瞬间绷紧。

巨大的真空泵组开始工作,发出低沉的咆哮。

显示屏上,代表光路内部真空度的数字,呈现断崖式的下跌趋势:0.01 pa、0.0001 pa、0.000001 pa,向着高真空迈进。

所有人的心都提到了嗓子眼!

极致的真空环境是euv光源传输的前提,任何一个微小的泄漏,都会导致前功尽弃。

不知过了多久!

汪象朝突然大声喊道:“真空度稳定在0.0000006帕斯卡!已达预设值!”

控制室内响起一阵轻微的、克制的骚动,有人轻轻握了握拳。

第一步,成功了!

为什么euv光刻机的光源系统、主腔体中的照明光学系统、成像光学系统、晶圆平台模组、掩模搬运模组和晶圆搬运模组都得处于真空环境下?

这是因为euv光波长极短,极易被包括空气在内的所有物质吸收。

在真空环境中,可最大限度减少气体分子对euv光的吸收和散射,从而确保光源能量能有效传输至后续光学系统。

若处于非真空环境,euv光会在传输过程中大幅衰减,无法满足光刻所需的能量强度。

这一模块的核心技术,是由章延杰牵头,联合几十名沈阳光机所的工程师共同攻关拿下的。

因此,他比任何人都紧张,生怕出现纰漏,拖了团队的后腿。

“启动光源预热,功率设定为最低档位。”

陈延森语气平静地宣布下一道指令。

令人紧张的时刻到来!

这是星源科技驯服的第一头猛兽——磁约束放电激发等离子体光源(mcde-euv光),即将被唤醒!

如果一切正常,它将用“电磁场”代替“激光”作为激发和约束等离子体的手段,进而获得微弱的、波长为13.5纳米的极深紫外光。

时间一分一秒地过去。

主监控屏上,一个原本平坦的基线,微微跳动了一下。

随后,一个虽然微弱但清晰可辨的信号峰值,顽强地升了起来!

“有信号了!”一名年轻的研究员忍不住地喊了出来,声音因激动而变得有些失真。

大家心里清楚!

第一台euv光刻机对华国的重大战略意义!

几乎在同一时间,位于光路末端的euv功率探测器,传回了第一条数据:107瓦!

一个在asml看来早已被甩在身后的数字,此刻却让整个控制室陷入了短暂的寂静,随即爆发出巨大的欢呼声!

许多人下意识地拥抱在一起,眼眶瞬间红了。

林南感觉自己的手都在微微颤抖,于是紧紧抓住栏杆,强迫自己冷静下来。

陈延森倒是心态平稳,他抬手压了压,控制室里的欢呼声很快平息。

“提高功率档位!”陈延森继续说道。

euv光刻机的功率直接决定单位时间内的晶圆处理数量,每一次曝光都需足够的euv光能量触发光刻胶的光化学反应。

若光源功率低,需延长单次曝光时间或增加脉冲次数,才能满足能量需求,导致单晶圆处理时间变长。

比如200w功率的机型每小时可处理约125片晶圆,而250w机型可提升至每小时170片,产能提升近40%。

技术差一点,就是差了一大截!

而且功率越高,单位晶圆的光刻成本就越低,规模化优势就越强。

闻言,林南立刻收敛心神,右手在控制台上快速滑动,目光紧盯着功率调节界面:“收到!当前目标档位220瓦,升压速率已调至安全阈值,避免等离子体不稳定。”