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第621章 ,外国人的钱赚起来更香

第621章 ,外国人的钱赚起来更香

不得不说,被人请过来待遇就是不一样。

食堂的小灶炒了四个硬菜,而且厨师的手艺相当的好,一点也不比外面饭店做的菜差。

一看就是平时给厂里领导做饭的。

就是这厨师是四川人,炒的菜都有些辣。

好在他吃的习惯。

味道不错。

吃了午饭,王青松便和马辉打了个招呼,离开了厂子。

出来以后,没着急回去,而是直接去了港岛。

因为这边的工作,平时都是晚上才过去,很少白天的时候过去,除了周末的时候偶尔去一趟。

……

重新回到港岛,人则在在厂区外一栋楼房的车库里。

为了方便,特地在厂区附近买了一栋两层的楼房,加盖了一个超大的院子。

就是为了以后卡车停放在这里方便。

开着车离开车库,直奔工厂厂区。

两年的时间,工业区的第一期已经建设完成,绿化也都已经种上。

后面的二期也已经开动,这一次,用的是全都是自己建筑公司的人。

至于剩下的三期还要后面建设。

车子开到厂区自然是顺利的进去了。

直接去了之前的电路板车间,只不过现在电路板车间已经搬迁到了其他楼。

现在这栋楼完全就是手机业务的大楼。

为了防止机器出问题。

在他的指导下,又重新装了一套系统,如果有问题,就可以切换过去。

核心的东西全都是由李思颖在负责,不让其他人插手。

“阿轩哥!”

看到他过来,李思颖笑呵呵走了过来:“怎么今天白天有时间了。”

“事情忙好了,就过来一趟,还好吧!”

“嗯,还好,有些问题,我会弄,一会我把东西给你!”

王青松笑着点点头:“嗯,待会把东西给我,上次的问题视频我转给你!”

既然让李思颖接触电脑,很多事情就轻松了很多。

设备有问题,只需要李思颖说明情况,他去找杨怀瑾找对应的视频就行了。

现在李思颖除了设备,还在学很多东西。

只不过因为工作原因,学习的进度有些慢。

这丫头也很努力,没有糊弄。

李思颖笑着答应了下来,随后找出平板电脑,将资料用蓝牙传了过去。

王青松又在大楼里溜达了一圈,这才拿着李思颖给的问题清单离开了大楼。

计算器车间没什么好看的。

就是一群普通按照要求焊接,只要掌握好原材料别丢了,其他的问题不是很大。

看了看,又去了电路板的车间。

此时唐修远几人正在那里研究控制面板的上的内容。

看到王青松过来,打了个招呼。

询问了一下工厂的进度,唐修远这才说道:“李先生,内地传来了消息,希望能引进一套电路板的生产线!不知道行不行?”

王青松闻言想了一下笑道:“可以!不过有一点啊!你们的人可不能给我跑光了啊!”

当初建设这个工厂的目的其实有两个。

一个是为了赚钱,还有一个原因则是给内地实验用的。

唐修远闻言笑了笑:“放心好了,不会的,我们来了已经这么长时间了,有些人需要轮换回去,这次也是和你说一下,以后我们会定期轮岗一部分人,同时也会保证你们这边的工厂能正常运转!”

王青松笑着点点头:“行,那你们自己看着安排,需要帮忙的话,跟我说一下。”

现在电路板的原材料除了覆铜板在这时期太贵了。

其他的都能在化工厂找到原材料。

唐修远嗯了一声:“暂时没有等有需要了,我们会跟你们说的。”

“好!”

王青松答应了下来。

这些人来了有接近一半年的时间,也是时候回去一部分了。

而且中间又来了一些人。

至于生产线,他现在已经完全放开了。

只要把控好设备,别被人弄走拆开研究,那么就不担心这些人能知道什么。

哪怕是真正的科研大佬来了也抓瞎。

没办法,这些机器系统,那些大佬现在都看不懂。

随后询问了一下生产情况,他这才离开去了研究所。

现在华科半导体的经营事情,斯波克基本上都交给了副经理,他则是主持研究所的事情。

不过每天他还是会去公司。

老板兼研发的人才多了去了。

只有研究所上了正轨以后,才不需要老板上手。

斯波克正在一张巨大的图纸上写写画画。

看到他过来也只是笑着招呼一声,又低头工作了起来。

王青松在那里看了一会。

斯波克这才抬头:“boss,找我有事情,还是说能给我新的灵感?”

研究所里的港岛员工看到他过来,自然也是过来做翻译。

王青松闻言笑了笑:“我可没有!样机试验怎么样了?”

距离他给的资料已经过去一年时间。

设备已经制造出来了。

或者说,半年前就已经制作出来一套光刻机设备。

但是这台光刻机有着这个时代光刻的通病。

那就是成品率。

主要原因自然是因为光掩膜的使用寿命。

现在是半导体的远古时代。

很多后世的软硬件这个时代都没有。

和后世的用计算机和eda软件设计不同的是,这个时代的光掩模真的是靠人工手搓的。

初代工程师先在方格纸上用彩色铅笔绘制好集成电路版图。

再用精细的刀片在光掩模母版上,徒手把晶体管和电路连接一点一点刻出来。

最后用母版图形,用相机缩小50到100倍。

才能用一张用来做光刻的光掩模。

和这种光掩模匹配的自然是接触式光刻机。

这种光刻机只会简单粗暴的将光掩模覆盖在硅片上。

掩模涂层与光刻机涂层直接接触,再打光照射,完成曝光。

但是这种光照方式的失败率和成本都很高。

因为胶体本身及其粘附的浮尘颗粒,不仅影响效果,还会对光掩模造成损伤。

10张晶片才能用有一张能用,还会加速光掩模的使用寿命。

成本是相当的高。

后来按照他给的资料,又在接触式光刻机的基础上,加了一个水平和垂直方向上可移动的平台。

以及一个测量光掩模和晶片之间的显微镜。

让两者在刻录的时候,靠近又不接近,解决了之前的问题。

也就是接近式的光刻机。

但是这种光刻机解决了之前的问题,但是精度下降。